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长江存储CEO:已采购光刻机连零件也拿不到,我国光刻机能否自力更生?

浏览次数:242      发布日期:2023年7月25日      来源:芯榜ipo
导读已采购光刻机连零件也拿不到

   日本23种高性能半导体制造设备出口管制7月23日生效。 此举旨在防止中国生产先进半导体,也是对美国收紧对华限制的响应。

据了解,日本此次限制出口的23种半导体材料和设备中包括了多种关键性材料,例如氟化氢、蚀刻液、聚酰亚胺和高纯度氮等,适用于半导体制造过程中不同阶段。

事实上除了日本半导体设备和材料对中国出口管制之外,ASML光刻机早就对中国半导体公司下手了。

2023上海半导体展会上,长江存储CEO陈南翔:“美国禁用光刻机的配件,长江存储连零件都拿不到”,“国产替代连退路都没有。”

陈南翔表示:现在长江存储现在的问题不是买不到芯片的先进设备了,而是以前设备零件都买不到了。这就导致设备坏了,连修都修不了!而只能像废铁那样摊在那里。

上海半导体展会上,长江存储CEO陈南翔的讲话引起了巨大的轰动和震惊。他的言论揭示了中国半导体产业面临的严峻挑战和困境。

最有潜力的大陆市场

对于ASML来说,中国大陆2022年贡献15%的营收。虽然比不上台湾和韩国等地区,但是对于ASML来说,中国大陆市场潜力是最大的。

众所周知,ASML股权结构复杂美国资本是ASML最大股东,能从中国大陆赚多少钱也并不是荷兰ASML说了算。在当下我国加大对半导体投资的现状下,对光刻机的需求将节节攀升,若是抛开半导体设备禁运,未来我国对ASML的业绩贡献将更有潜力。

根据阿斯麦年报,2020年~20223年间,中国大陆市场对ASML营收占比分别是18%、17%、15%呈逐年下滑的态势,并不是说上海微电子的国产光刻机崛起了实现国产替代,而是买不到ASML先进的光刻机了。

过去,针对中国光刻机禁运ASML表示只限制几款高端机型,而且可能会推出中国的特供版,以求绕开美国管制。从商业角度来看,ASML在国家政治斗争中也是牺牲品,ASML正在逐渐损失中国这个潜力巨大的客户。

在当下,消费电子出货量不佳,对半导体的拉动疲软。半导体设备领域ASML独占鳌头,中国大陆市场非常需要ASML的产品,不仅仅是ASML高端DUV和EUV光刻机,还有测试、扫描设备等等。在过去中国大陆的晶圆厂招标ASML频繁中标。

光刻机我国能否自力更生

从长江存储CEO陈南翔在会上表述,当下ASML高端DUV和EUV光刻机与中国无缘,除此之外已经采购光刻机的配件、零部件也难如登天,中国大陆若丧失ASML技术支持,又能否自力更生?

压力给到上海微电子,作为主机厂目前量产90nm光刻机,可以满足WiFi、LCD驱动、电源管理、射频以及各类数模混合芯片的需求。据了解28nm也技术已经突破交付了样机,但是还没有量产。

但是从全局的角度看,光刻机国产替代并不是上海微电子一家的责任,因为以美国为首的国家不光限制光刻机整机出口,零部件以及配套设施也加以限制。想实现光刻机国产化需要有一个完整上下游供应链,各方向都实现突破,才能够真正摆脱限制。

ASML之所以能够成为全球独一无二的光刻机供应商,主要就是背后有一套强大的供应商体系,能够满足ASML各种技术要求。从光刻机的5大核心组件来看,中国大陆的国产化水平到底怎么样?

1,激光光源是最核心的零部件,从光刻机的发展路径来看,历经了三代光源类型,分别是紫外光、深紫外光和极紫外光,从具体的光源技术来看的话,依次是g线、I线、krf,Arf和EUV一共5代。

国际上能够提供EUV光源的公司只有两家,一个是美国的Cymer,一个是日本的Gigaphoton。

而在中国大陆科益宏源已经突破了Arf光源,供应上海微电子28nm光刻机。包括干式190nm,也包括浸润式190nm都已经攻克了,EUV光源是由中科院长春光机所与哈工大联合攻克的。

2,光刻机物镜系统,奥普光电已经做到90nm制程水平,但是与国际水平的差距是非常悬殊的。光刻机其实某种程度上就是个照相机,光学技术是它最核心的壁垒之一。

光刻机的光学系统主要就包括了物镜、反射镜、偏振器、滤光片和光缆等几大组件,其中物镜的难度系数是最高,目前德国蔡司是其中翘楚。ASML是蔡司在光刻机光学业务上的独家客户。ASML EUV光刻机物镜系统的镜面误差在原子级别只有0.025nm,这个水平中国大陆暂时难以望其项背。

3,双工台在中国大陆清华大学和华卓精科合作已经实现了10米,注意这里的10nm指的是运动精度为10nm。相比之下ASML为2nm.

4,浸润系统方面,浙江启尔机电已经突破了Arif技术。在这里我们再解释一下 DUV光刻机是分为krf、Arf和Arfi三中。虽然国产光刻机还停留在干式 DUV,但是Arfi技术已经初具水平。

5,涂胶显影设备,中国大陆在这个方面的龙头企业是沈阳的芯源微,在2022年就已经宣布在28nm及以上制程实现了全面国产化替代。那么这一类设备主要包括涂胶机、喷胶机和显影机等等。在全球范围内涂胶显影设备领域是一个高度垄断的行业,有接近90%的市场被日本的东京电子占据,芯源微占比约0.7%。

光刻胶krf已经突破,Arf待突破。根据光源的不同,每一种光刻机都会有单独的一种光刻胶来适配,而目前中国大陆的对外依赖程度高达80%,根据上市公司的公告数据用于6英寸晶圆的j线I线光合胶自给率只有20%,而适用于8英寸晶圆的krf光合胶已经突破,但是自给率也小于5%。

而12英寸晶圆要用到的Arf光合胶目前依然需要进口,其中生产krf光合胶的这家企业是北京科华应该是目前唯一量产的一家。

整体来说中国大陆的光刻机从整机来看已经是第四代的水平,但是从本土供应链来看,木桶效应还比较的明显,尤其是光刻胶这类耗材仍然是严重依赖进口。

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